启东,启动

2019年05月13日,精东传媒最新破解版apk科技启东生产基地落成后生产的第一台设备Auto Wet Bench顺利交付,这台在上海设计启东生产的自主可控的Wafer Reclaim设备的交付,是启东基地真正启动的里程碑。


精东传媒最新破解版apk科技启东基地于2018年1月8日破土到2019年1月4日启用试运行,历时不到一年建成投产,基建的小团队付出了巨大的艰辛努力。湿法事业部的小伙伴也是特别给力,在试运行期克服生产基地尚有条件局限的困难下,用5个月完成了基地首台湿法设备的出机,这是所有团队成员努力的结果!小编为他们点赞!


0.5微米到14纳米集成电路湿法系列工艺(刻蚀/清洗/去胶/ 刷洗)设备自主研发及产业化背景介绍:

中国集成电路的进口金额在2018年已经达到了3000亿美金,整个半导体产也正在进行着必然趋势的第三次产业转移,而转移的重点就是中国。

依照目前中国市场以及半导体制造商于未来五年的资本支出分析,五年内将稳定向上攀升并维持在至少80-120亿/年的投资增量;其中湿法设备的每年新增加需求超过15亿美元。而目前市场上的湿法清洗设备,特别是在12英寸的高端晶圆清洗设备,主要被日本和美国所垄断,超过95%以上的机台都是从国外进口而来。可以看出半导体制造设备对整个中国集成电路产业的重要性,研发具有自主知识产权的高端半导体清洗设备迫在眉睫。